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CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
专利权人:
NIKON CORPORATION
发明人:
SHIBAZAKI YUICHI
申请号:
KR20177037120
公开号:
KR20180016423(A)
申请日:
2016.06.07
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要:
전자선 레지스트가 도포된 웨이퍼 (W) 를 전자 빔으로 노광하는 전자 빔 노광 장치 (100) 는, 웨이퍼 (W) 를 유지하여 이동 가능한 스테이지 (22) 와, 전자 빔을 웨이퍼 (W) 에 조사하는 전자 빔 광학계 (32) 와, 전자 빔 광학계의 광축 방향에 관한 웨이퍼 (W) 측에 웨이퍼 (W) 에 소정의 간극을 개재하여 대향하여 배치되고, 전자 빔 광학계 (32) 로부터의 전자 빔이 통과하는 개구가 형성된 개구 부재 (16) 를 구비하고 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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