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安定化されたドネペジル含有貼付製剤
专利权人:
日東電工株式会社
发明人:
花谷 昭徳,関谷 純一,寺師 左知子,西 純代,和城 智子,明見 仁
申请号:
JP2008547065
公开号:
JP5110711B2
申请日:
2007.11.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
< Topic >Offer of the donepejiru content sticking formulation where formation of the affinity substance of donepejiru in adhesive layer is controlled.Solutions In the donepejiru content adhesive layer which the backing provides at least in one side, asukorubin acid or that metal salt or ester, isoasukorubin acid or that metal salt, the ethylenediaminetetraacetic acid or that metal salt, cystein and acetyl cystein, 2 merukaputobenzuimidazoru, 3(2) t butyl 4 hydroxy anisole and 2,6 ji t butyl 4 methyl phenol, tetra- kiss [the 3 (3 and 5 - ji t butyl 4 hydroxy phenyl) propionic acid] pentaerythritol and 3 merukaputo 1,2 propane diol, acetic acid tokohueroru, rutin and kuerusechin, hydroquinone, the hydroxy methane sulfinic acid metal salt, the meta it is heavy sulfurous acid metal salt, the sulfurous acid metal salt and the thiosulfuric metal saltThe stabilization medicine above the 1 or 2 kinds which are chosen is combined from the group which consists of.【課題】粘着剤層中でのドネペジルの類縁物質の生成が抑制されるドネペジル含有貼付製剤の提供。【解決手段】 支持体の少なくとも片面に設けるドネペジル含有粘着剤層に、アスコルビン酸またはその金属塩もしくはエステル、イソアスコルビン酸またはその金属塩、エチレンジアミン四酢酸またはその金属塩、システイン、アセチルシステイン、2-メルカプトベンズイミダゾール、3(2)-t-ブチル-4-ヒドロキシアニソール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、テトラキス[3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸]ペンタエリトリトール、3-メルカプト-1,2-プロパンジオール、酢酸トコフェロール、ルチン、クエルセチン、ヒドロキノン、ヒドロキシメタンスルフィン酸金属塩、メタ重亜硫酸金属塩、亜硫酸金属塩およびチオ硫酸金属塩からなる群より選ばれる1種または2種以上の安定化剤を配合する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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