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安定化されたドネペジル含有貼付製剤
专利权人:
日東電工株式会社
发明人:
花谷 昭徳,関谷 純一,寺師 左知子,西 純代,和城 智子,明見 仁
申请号:
JP2008547067
公开号:
JP5037522B2
申请日:
2007.11.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
< Topic >Decrease the formation quantity of the affinity substance of donepejiru in the donepejiru sticking formulation.SolutionsDescription below (a) - (j) 1 kinds or 2 kinds or more which are selected from the combination group of chemical compound are combined in donepejiru content adhesive layer. (A) isoasukorubin acid or that metal salt and 2 merukaputobenzuimidazoru (B) isoasukorubin acid or that metal salt and 2,6 ji t butyl 4 methyl phenol (C) isoasukorubin acid or that metal salt and hydroxy methane sulfinic acid metal salt (D) isoasukorubin acid or that metal salt and rutin (E) 2 merukaputobenzuimidazoru and 2,6 ji t butyl 4 methyl phenol (F) 2 merukaputobenzuimidazoru and hydroxy methane sulfinic acid metal salt (G) 2 merukaputobenzuimidazoru and rutin (H) 2,6 ji t butyl 4 methyl phenol and hydroxy methane sulfinic acid metal salt (i)2,6 ji t butyl 4 methyl phenol and rutin (J) hydroxy methane sulfinic acid metal salt and rutin【課題】ドネペジル貼付製剤中のドネペジルの類縁物質の生成量を低減すること。【解決手段】ドネペジル含有粘着剤層に下記(a)~(j)の化合物の組み合わせ群から選択される1種又は2種以上を配合する。(a)イソアスコルビン酸またはその金属塩と2-メルカプトベンズイミダゾール(b)イソアスコルビン酸またはその金属塩と2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール(c)イソアスコルビン酸またはその金属塩とヒドロキシメタンスルフィン酸金属塩(d)イソアスコルビン酸またはその金属塩とルチン(e)2-メルカプトベンズイミダゾールと2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール(f)2-メルカプトベンズイミダゾールとヒドロキシメタンスルフィン酸金属塩(g)2-メルカプトベンズイミダゾールとルチン(h)2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノールとヒドロキシメタンスルフィン酸金属塩(i)2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノールとルチン(j)ヒドロキシメタンスルフィン酸金属塩とルチン
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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