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日焼け止め化粧料
专利权人:
株式会社;資生堂
发明人:
石飛 佐和子,白尾 雅之,阿部 公司,山口 和弘
申请号:
JP2011505944
公开号:
JPWO2010110020A1
申请日:
2010.03.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
As for this invention, (1) p methoxy cinnamic acid 2 ethylhexyl and,(2) diethyl amino hydroxy benzoyl benzoic acid hexyl and,(3) jimechikojiechirubenzarumaroneto and,The (4)2, 4 bis - {[the 4 (2 ethylhexyl oxy) 2 hydroxy] phenyl} it is something which offers the anti-sunburn make-up charge which features that it combines with the 6 (4 methoxy phenyl) - (1, 3 and 5) - triazine. In addition, as for this invention, (1) p methoxy cinnamic acid 2 ethylhexyl and,(2) diethyl amino hydroxy benzoyl benzoic acid hexyl and,(3) jimechikojiechirubenzarumaroneto and,(4)2, 4 bis - {[4 (2 ethylhexyl oxy) 2 hydroxy] phenyl} 6 (4 methoxy phenyl) - (1, 3 and 5) - triazine and,(5) it is something which offers the anti-sunburn make-up charge which features that it combines with the powder. Purpose of this invention is to offer the anti-sunburn make-up charge which possesses with use impression and high SPF of being superior.本発明は、(1)p-メトキシケイ皮酸-2-エチルヘキシルと、(2)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、(3)ジメチコジエチルベンザルマロネートと、(4)2、4-ビス-{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-(1、3、5)-トリアジンとを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。また、本発明は、(1)p-メトキシケイ皮酸-2-エチルヘキシルと、(2)ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルと、(3)ジメチコジエチルベンザルマロネートと、(4)2、4-ビス-{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-(1、3、5)-トリアジンと、(5)粉末とを配合することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。本発明の目的は、優れた使用感と高いSPFとを有する日焼け止め化粧料を提供することである。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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