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모발 처리제 조성물과 이를 사용하는 모발 처리 방법
专利权人:
发明人:
하타 마사카추
申请号:
KR1020127000554
公开号:
KR1016688600000B1
申请日:
2010.06.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
There is provided a hair treatment composition comprising an amphoteric surfactant having a structure represented by the following formula (1) and a sugar nonionic surfactant.Wherein R1 represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, R2 represents a methyl group, an ethyl group or a hydroxyethyl group, R3 represents a methyl group, an ethyl group or a CH2COOH group, and n represents an integer of 1 to 3 Is a natural number of.< Formula (1) >다음 화학식 1에 의해 표현되는 구조를 갖는 양쪽성 계면 활성제와 당 비이온 계면 활성제를 포함하는 모발 처리제 조성물이 제공된다. 상기 화학식 1에서 상기 R1은 6 내지 20의 탄소수를 갖는 알킬기를 나타내고, 상기 R2는 메틸기, 에틸기, 또는 하이드록시에틸기를 나타내고, 상기 R3는 메틸기, 에틸기, 또는 CH2COOH기를 나타내고, 상기 n은 1 내지 3의 자연수이다.<화학식 1>
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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