Provided is a hair-treatment composition containing: a first amphoteric surfactant having a structure represented by general formula (1) below at least one type of second amphoteric surfactant selected from the group consisting of fatty acid amide propyldimethylaminoacetic acid betaines, alkyldimethylaminoacetic acid betaines, N-acylaminoethyl-N-2-hydroxyethylaminocarboxylic acid salts and N-acylaminoethyl-N-carboxymethoxyethylaminocarboxylic acid salts fatty acid amide propyldimethylaminoacetic acid betaines, alkyldimethylaminoacetic acid betaines and an acidic amino acid. In general formula (1), R1 represents an alkyl group the carbon number of which is 6 to 20 R2 represents a methyl group, an ethyl group, or a hydroxyethyl group R3 represents a methyl group, an ethyl group, or a &mdashCH2COOH group and n is an integer from 1 to 3.아래의 화학식 1에 의해 표현되는 구조를 갖는 제1양쪽성 계면 활성제 지방산 아미드 프로필디메틸아미노아세트산 베타인, 알킬디메틸아미노아세트산 베타인, N-아실아미노에틸-N-2-하이드록시에틸아미노카르복실산 염, 및 N-아실아미노에틸-N-카르복시메톡시에틸아미노카르복실산 염 지방산 아미드 프로필디메틸아미노아세트산 애시드 베타인, 알킬디메틸아미노아세트산 베타인을 포함하는 그룹들로부터 선택된 제2양쪽성 계면 활성제의 적어도 하나의 종류 및 산성 아세트산을 포함하는 모발 처리제 조성물이 제공된다. 화학식 1에서, R1은 탄소 수 6 내지 20의 알킬기를 나타내고 R2는 메틸기, 에틸기, 또는 하이드록시에틸기를 나타내고 R3은 메틸기, 에틸기, -CH2COOH 기를 나타내고 n은 1 내지 3의 정수이다.[화학식 1]
