The optical imaging system 12 will have its optical axis 16 aligned with respect to a given alignment axis 14. [ To this end, the radiation beam 30 is emitted along the alignment axis 14 from one side of the imaging system 12. A pair of diaphragm elements (24, 26) is located behind the imaging system (12) in the beam propagation direction, and the apertures of the pair of diaphragm elements (24, 26) And a plurality of sensor elements that are covered by the piece and are arranged in a matrix. The sensor elements may graphically depict the current alignment of the imaging system 12 on the monitor 44 and / or provide information about the measured radiation intensity, which may produce automatic adjustment of the imaging system 12, (42).광학 이미징 시스템(12)은 주어진 정렬 축(14)에 관하여 그의 광학 축(16)이 정렬될 것이다. 이를 위해, 방사선 빔(30)은 이미징 시스템(12)의 한 측으로부터 정렬 축(14)을 따라 방사된다. 빔 전파 방향으로, 이미징 시스템(12) 뒤쪽에 한 쌍의 격판 엘리먼트들(24, 26)이 위치되고, 상기 한 쌍의 격판 엘리먼트들(24, 26)의 애퍼처들은 각각 방사선에 투과성인 재료의 피스에 의해 커버되고, 매트릭스로 배열된 복수의 센서 엘리먼트들을 보유한다. 센서 엘리먼트들은 모니터(44) 상에 이미징 시스템(12)의 현재 정렬 상태를 그래픽으로 도시하고 및/또는 이미징 시스템(12)의 자동 조정을 생성할 수 있는 측정된 방사선 강도에 관한 정보를 신호 프로세싱 유닛(42)에 공급한다.
