VARADARAJAN, Bhadri N.,MCLAUGHLIN, Kevin M.,VAN SCHRAVENDIJK, Bart
申请号：
USUS2011/064246
公开号：
WO2012/087620A2
申请日:
2011.12.09
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要：
A method for the ultraviolet (UV) treatment of carbon-containing low-k dielectric and associated apparatus enables process induced damage repair. The methods of the invention are particularly applicable in the context of damascene processing to recover lost low-k property of a dielectric damaged during processing, either pre-metallization, post-planarization, or both. UV treatments can include an exposure of the subject low-k dielectric to a constrained UV spectral profile and/or chemical silylating agent, or both.Linvention porte sur un procédé pour le traitement par des ultraviolets (UV) dun diélectrique de faible k contenant du carbone et sur un appareil correspondant permettant la réparation dun endommagement provoqué par un traitement. Les procédés de linvention sont en particulier applicables au contexte du traitement par du damascène pour récupérer la propriété de faible k perdue dun diélectrique endommagé pendant le traitement, avant métallisation et/ou après planarisation. Les traitements par des UV peuvent comprendre une exposition du diélectrique de faible k de lobjet à un profil de spectre UV contraint et/ou à un agent de silylation chimique.
