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THERMAL PROCESSING DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND THERMAL PROCESSING METHOD
专利权人:
SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人:
INAGAKI YUKIHIKO
申请号:
KR20170093465
公开号:
KR20180011731(A)
申请日:
2017.07.24
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要:
열처리 장치는, 대기부, 가열부 및 반송 기구를 포함한다. 대기부는, 복수의 지지핀을 포함한다. 반송 기구는, 기판을 유지하는 반송 아암을 포함하고, 반송 아암을 이동시킴으로써 대기부와 가열부 사이에서 기판을 반송한다. 반송 아암은, 복수의 영역을 갖고, 반송 아암 내에는 복수의 영역을 각각 냉각하는 복수의 냉각수 통로가 설치된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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