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COATING COMPOSITIONS FOR USE WITH AN OVERCOATED PHOTORESIST
专利权人:
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.
发明人:
RYU, Eui Hyun,KIM, Myung-Yeol,CHO, Eunhye,LEE, Jung-June,SIM, Jae Hwan
申请号:
WO2017IB01360
公开号:
WO2018060770(A1)
申请日:
2017.09.29
申请国别(地区):
世界知识产权组织国际局
年份:
2018
代理人:
摘要:
Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions for use with an overcoated photoresist, are provided that comprise 1) one or more resins and 2) one or more substituted isocyanurate compounds that are distinct from the 1) one or more resins.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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