The three-dimensional beam forming the X-ray source includes an electron beam generator (EBG) that generates an electron beam. The target element is arranged at a predetermined distance from the EBG and arranged so as to interfere with the electron beam. The target element produces x-rays in response to the electron beam. The beamformer is positioned adjacent to the target element and includes a material that interacts with the x-ray radiation to form an x-ray beam. The EBG control system selectively changes the position where the electron beam intersects the target element to determine the beam pattern and direction of the X-ray beam to determine the interaction between the X-ray radiation and the beamformer structure. Control at least one of them. [Selection diagram] Figure 1Ｘ線源を形成する３次元ビームは、電子ビームを生成する電子ビーム生成器（ＥＢＧ）を含む。ターゲット要素は、ＥＢＧから所定の距離に配置され、電子ビームを妨害するように配置される。ターゲット要素は、電子ビームに応答してＸ線を生成する。ビームフォーマーは、ターゲット要素に近接して配置され、Ｘ線放射と相互作用してＸ線ビームを形成する材料を含む。ＥＢＧ制御システムは、Ｘ線放射とビームフォーマー構造との相互作用を決定するために、電子ビームがターゲット要素と交差する位置を選択的に変化させることにより、Ｘ線ビームのビームパターンと方向とのうち少なくとも一方を制御する。【選択図】図１
