This invention regards, the beam formation device (14) the method of setting the emission plan of business (1 and 2). Emission plan correlates, when application (12) doing emission plan, at least one which has the times when it occurs basic parameter (29) with, at least partly and/or at least temporarily, plural lighting positions (33) it includes. Setting of emission plan (1) between, one basic parameter (29) with correlation is easier to occur at least, emission position (33) you can insert in consideration the part, more.本発明は、ビーム生成装置(14)用の放射計画を設定する方法(1、2)に関する。放射計画は、放射計画を適用(12)するときに生じることのある少なくとも1つの基本パラメータ(29)と、少なくとも部分的にかつ/または少なくとも一時的に相関する、複数の照射位置(33)を含む。放射計画の設定(1)の間に、少なくとも1つの基本パラメータ(29)との相関がより生じやすい、放射位置(33)の部分が、より多く考慮に入れられる。
