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被覆膜とその製造方法およびPVD装置
- 专利权人:
- 日本アイ・ティ・エフ株式会社;日本ピストンリング株式会社
- 发明人:
- 森口 秀樹,齋藤 喬士,田中 祥和,荒樋 徹美,小川 勝明,岡崎 孝弘,杉浦 宏幸,伊東 義洋
- 申请号:
- JP20160548484
- 公开号:
- JPWO2016042630(A1)
- 申请日:
- 2014.09.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく、耐チッピング性(耐欠損性)や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびPVD装置を提供する。基材の表面に被覆される被覆膜であって、断面を明視野TEM像により観察したとき基材に対して垂直な方向に柱状に連なっている硬質炭素層が形成されており、硬質炭素層がPVD法を用いて形成されており、硬質炭素層をラマン分光法で測定したとき、ラマン分光スペクトルのDバンドとGバンドのピークの面積強度比であるID/IG比が1〜6である被覆膜。アーク式PVD法を用いて、基材温度が250〜400℃に維持されるように、バイアス電圧、アーク電流、ヒーター温度および/または炉内圧力を制御すると共に、基材を自転および/または公転させながら基材の表面
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址:
- http://www.ckcest.cn/home/