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被覆膜とその製造方法およびＰＶＤ装置
- 专利权人:
- 日本アイ・ティ・エフ株式会社;日本ピストンリング株式会社
- 发明人:
- 森口 秀樹,齋藤 喬士,田中 祥和,柴田 明宣,荒樋 徹美,小川 勝明,岡崎 孝弘,杉浦 宏幸,伊東 義洋
- 申请号：
- JP20160548483
- 公开号：
- JPWO2016042629(A1)
- 申请日:
- 2014.09.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 低摩擦性と耐摩耗性の両立を十分に改善させるだけでなく耐チッピング性や耐剥離性の改善も図られた被覆膜とその製造方法およびＰＶＤ装置を提供する。基材の表面に被覆された膜であって、断面を明視野ＴＥＭ像により観察したとき相対的に白黒で示される硬質炭素を有しており、白色の硬質炭素が厚み方向に網目状に連なっており、黒色の硬質炭素が網目の隙間に分散している網目状硬質炭素層がＰＶＤ法を用いて形成されており、網目状硬質炭素層をラマン分光法で測定したときラマン分光スペクトルのＤバンドとＧバンドのピークの面積強度比であるＩＤ／ＩＧ比が１〜６である被覆膜。アーク式ＰＶＤ法を用いて、基材温度が２００℃を超え３００℃以下に維持されるようにバイアス電圧、アーク電流、ヒーター温度等を制御すると共に、基材を
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
