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基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法
专利权人:
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED
发明人:
ベルガー, トーマス,リンデンベルク, ラルフ
申请号:
JP20160559556
公开号:
JP2017513221(A)
申请日:
2014.04.02
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
基本的に垂直に配向された基板を処理するための基板処理システムが記載されている。基板処理システムは、第1の運搬軌道と第2の運搬軌道とを有する第1のデュアル軌道運搬システムを有する第1の真空チャンバと、第1の真空チャンバ内で、基板を第1の運搬軌道から第2の運搬軌道へ、又は第2の運搬軌道から第1の運搬軌道へ側方変位させる少なくとも1つの側方変位機構と、第2の真空チャンバを有する真空回転モジュールであって、第2の真空チャンバ内の垂直回転軸の周りで基板を回転させるための垂直回転軸を備え、第1の回転軌道と第2の回転軌道とを有する第2のデュアル軌道運搬システムを有し、第1の回転軌道は、第1の運搬軌道と共に線形運搬路を形成するために回転可能であり、第2の回転軌道は、第2の運搬軌道と共に線形
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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