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リチウム含有薄膜層状構造を製造するための蒸着方法
- 专利权人:
- イリカ テクノロジーズ リミテッド
- 发明人:
- スミス，ダンカン クリフォード アラン,ヘイデン，ブライアン エリオット,リー，クリストファー エドワード,アナスタソポウロス，アレキサンドロス,パーキンス，ローラ メアリー,ハッチングズ，カイル ジェームス
- 申请号：
- JP20160526330
- 公开号：
- JP2017503913(A)
- 申请日:
- 2015.01.07
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 多層薄膜構造を形成するための蒸着方法は、第１層に意図される化合物及び第２層に意図される化合物の各成分元素の蒸発源を提供するステップであって、蒸発源が、少なくともリチウム源、酸素源、１種類以上のガラス形成元素の１つ又は複数の供給源、及び１種類以上の遷移金属の１つ又は複数の供給源を含む、ステップと、基板を第１温度まで加熱するステップと、少なくともリチウム、酸素及び１種類以上の遷移金属の蒸発源からの成分元素を、加熱された基板上に共堆積するステップであって、成分元素が基板上で反応して、結晶性リチウム含有遷移金属酸化物化合物の層を形成する、ステップと、基板を、第１温度から実質的に１７０℃以下の温度範囲内の第２温度まで加熱するステップと、少なくともリチウム、酸素及び１種類以上のガラス形
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
