電子ビーム蒸着装置および薄膜作製方法
- 专利权人:
- 株式会社村田製作所
- 发明人:
- 杉元 祐一,足立 直哉,關 仁士
- 申请号：
- JP20160551933
- 公开号：
- JPWO2016052246(A1)
- 申请日:
- 2015.09.18
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 電子ビーム蒸着装置（１００）は、蒸着材料を充填するための坩堝（１４）と、蒸着材料に入射する電子ビーム（２０）を生成するための電子銃（１６）と、磁界発生部（３０）と、磁気遮蔽体（４０）とを備える。磁界発生部（３０）は、蒸着材料で反射した反射電子を偏向させるための第１の磁界（Ｂ１）を発生する。磁気遮蔽体（４０）は、第１の磁界（Ｂ１）が電子ビーム（２０）の軌道に影響を及ぼさないように、第１の磁界（Ｂ１）を遮蔽する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
