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皮膚洗浄料
专利权人:
株式会社;資生堂
发明人:
石窪 章,大森 隆司,鈴木 由紀,勅使河原 喬史,円山 圭一,田口 須恵,手塚 洋二
申请号:
JP2006269123
公开号:
JP5530052B2
申请日:
2006.09.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a skin-washing agent having a good compatibility with cosmetics, excellent in use feeling such as easy rinsing in washing, or without having a sticky feeling or creaking feeling after washing, excellent in cosmetic removal effects and further having a low skin irritation.SOLUTION: This skin-washing agent contains 0.01 to 70 mass% of a block type alkylene oxide derivative expressed by formula (I) [wherein, Y is a residue of removing hydroxy groups from a polyhydric alcohol having 3 to 6 hydroxy groups (k) is the number of the hydroxy groups of the polyhydric alcohol EO is oxyethylene group and AO is a 3-6C oxyalkylene group and each of them are added as a block state and 0&lea×k&le100, 1&leb×k&le100, 0&lec×k&le100, provided that (a+c)×k>1] and 0.1 to 20 mass% of a humectant.COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT【課題】化粧料とのなじみが良く、洗浄中のすすぎやすさ、洗浄後のべたつき感・きしみ感のなさ等の使用性に優れ、化粧料除去効果に優れ、さらに低皮膚刺激性である皮膚洗浄料を提供することにある。【解決手段】下記の式(I)で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体0.01~70質量%と、保湿剤0.1~20質量%とを含有することを特徴とする皮膚洗浄料。(式中、Yは3~6個の水酸基を有する多価アルコールの水酸基を除いた残基、kは前記多価アルコールの水酸基数、EOはオキシエチレン基、AOは炭素数3~6のオキシアルキレン基でそれぞれブロック状に付加されている。0≦a×k≦100、1≦b×k≦100、0≦c×k≦100、ただし(a+c)×k>1である。)【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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