The present disclosure relates to methods and apparatuses for monitoring substrates advancing along a converting apparatus in a machine direction. The apparatus may include an analyzer connected with a line scan camera through a communication network. The analyzer may be configured as a field programmable gate array, an application specific integrated circuit, or a graphical processing unit. In addition, the line scan camera may include a linear array of pixel data and define a linear field of view, wherein the line scan camera is arranged such that the linear field of view extends in the machine direction. The apparatus may further include an illumination source that illuminates the linear field of view. In operation, the substrate is advanced in the machine direction such that a portion of the substrate advances through the linear field of view. In turn, the apparatus may be configured to perform various monitoring and/or control functions.La présente invention concerne des procédés et des appareils pour surveiller des substrats avançant le long dun appareil de conversion dans un sens machine. Lappareil peut comprendre un analyseur connecté à une caméra à balayage linéaire par lintermédiaire dun réseau de communication. Lanalyseur peut être configuré sous la forme dune matrice prédiffusée programmable par lutilisateur, dun circuit intégré spécifique à lapplication ou dune unité de traitement graphique. En outre, la caméra à balayage linéaire peut comprendre un réseau linéaire de données de pixels et définir un champ de vision linéaire, la caméra à balayage linéaire étant disposée de telle sorte que le champ de vision linéaire sétend dans le sens machine. Lappareil peut en outre comprendre une source déclairage qui éclaire le champ de vision linéaire. En fonctionnement, le substrat est avancé dans le sens machine de telle sorte quune partie du substrat avance à travers le champ de vision linéaire. À son tour, lappareil peut être configuré pour exécuter diverses fon
