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冷却型焼灼カテーテル装置および使用方法
专利权人:
ボストン サイエンティフィック サイムド,インコーポレイテッド
发明人:
コブリッシュ, ジョセフ,オレイ, レスリー
申请号:
JP2010528999
公开号:
JP5536653B2
申请日:
2008.10.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Electrophysiological electrodes including an at least substantially planar distal end and/or surface discontinuities at or adjacent to the distal end are disclosed.本明細書では、焼灼カテーテルおよび使用方法が開示される。カテーテルは、カテーテル先端内で冷却流体を循環させて、カテーテル先端内の高温部を減少させ、および/または凝塊の形成を低減するための冷却チャンバを含むことが可能である。近位の冷却チャンバは、カテーテルの近位部分を冷却するために熱質量に対して近位に配置することが可能である。加えて、または代替として、遠位の冷却チャンバは、カテーテル先端の遠位部分を冷却するために配置することが可能である。冷却流体は、開ループ、閉ループ、または開および閉ループで焼灼カテーテルを流動することが可能である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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