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피부 상태개선용 조성물
专利权人:
RNS CO.; LTD.
发明人:
KIM, CHEONG TAEKKR,김청택
申请号:
KR1020150166821
公开号:
KR1020170061562A
申请日:
2015.11.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a derivative of a compound represented by the general formula (I) or a pharmacologically acceptable salt thereof. In the general formula (I), R1 is an alkyl group or a hydroxyalkyl group with straight or branched and saturated or unsaturated chains of C_1 to C_10. R2 is an alkoxy or hydroxy alkoxy group with straight or branched and saturated or unsaturated chains of C_1 to C_10 and hydrogen. X is an alkyl, alkoxy, or hydroxy alkoxy group with straight or branched and saturated or unsaturated chains of C_1 to C_10, hydrogen, and the hydroxy group. R3 and R4 are individually selected in the group including alkyl, alkoxy, and hydroxy alkoxy group with straight or branched and saturated or unsaturated chains of C_1 to C_10, R5, hydrogen, and aldehyde group. R5 is a structure represented as the figure. R6 is selected in a group including the alkyl, alkoxy, and hydroxy alkoxy groups with straight or branched and saturated or unsaturated chains of hydrogen and C_1 to C_10. One of the R3 and R4 represents hydrogen in the formula.COPYRIGHT KIPO 2017본 발명은 하기 일반식(I)로 나타내어지는 화합물의 유도체 또는 그의 약리학적으로 허용 가능한 염 :상기 식에서 R1은 C1 내지 C10의 포화 혹은 불포화된 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 히드록시 알킬기, R2는 수소 또는 C1 내지 C10의 포화 혹은 불포화된 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 히드록시알콕시, X는 수소, 히드록시, C1 내지 C10의 포화 혹은 불포화된 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 알콕시 또는 히드록시알콕시이고, R3 과 R4는 각각 독립적으로 R5, 수소, 알데히드, C1 내지 C10의 포화 혹은 불포화된 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, 알콕시, 히드록시알콕시에서 선택되어지며, R5는 의 구조이며, R6 는 수소, C1 내지 C10의 포화 혹은 불포화된 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, 알콕시, 히드록시알콕시에서 선택되어진다. 상기 식에서 R3 과 R4는 둘 중 하나는 수소이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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