The present invention provides a rocuronium formulation having excellent stability. This formulation includes rocuronium and a buffer solution, and has a pH adjusted to 3.5 or less (for example, 2.5-3.5). The buffer solution may be a citric acid/sodium hydroxide buffer solution, a tartaric acid/sodium hydroxide buffer solution, a potassium hydrogen phthalate/hydrochloric acid buffer solution, a glycine/hydrochloric acid buffer solution or the like. This type of rocuronium formulation has a rocuronium analog C generation rate of 5% or less after being stored for six months at 40 °C, for example.La présente invention concerne une formulation de rocuronium possédant une excellente stabilité. Cette formulation comprend du rocuronium et une solution tampon, et a un pH réglé à 3,5 ou moins (par exemple entre 2,5 et 3,5). La solution tampon peut être une solution tampon d'acide citrique et d'hydroxyde de sodium, une solution tampon d'acide tartrique et d'hydroxyde de sodium, une solution tampon d'hydrogénophtalate de potassium et d'acide chlorhydrique, une solution tampon de glycine et d'acide chlorhydrique, ou analogue. Ce type de formulation de rocuronium présente une génération d'impureté C analogue à celle du rocuronium mais à un taux de 5 % ou moins après avoir été stocké pendant six mois à 40 °C, par exemple.本発明は、優れた安定性を有するロクロニウム製剤を提供する。この製剤は、ロクロニウムと緩衝液とを含み、ｐＨが３．５以下（例えば、２．５～３．５）に調整されている。緩衝液は、クエン酸・水酸化ナトリウム緩衝液、酒石酸・水酸化ナトリウム緩衝液、フタル酸水素カリウム・塩酸緩衝液、グリシン・塩酸緩衝液などであってもよい。このようなロクロニウム製剤は、例えば、４０℃で６ヶ月間保存後、ロクロニウムの類縁物質Ｃの生成率が５％以下である。
