Specification, clostridial toxin modified including a clostridial toxin substrate cleavage site is located in the double-stranded loop region code Clostridial toxin that has been modified, including a clostridial toxin substrate cleavage site is located in the double-stranded loop region within take I discloses a process for the production of a clostridial toxin that has been modified, including a clostridial toxin substrate cleavage site is located in the double-stranded loop region and within a polynucleotide molecules. [Selection] Figure Figure 1明細書は、2本鎖ループ領域内に位置するクロストリジウム毒素基質切断部位を含む修飾されたクロストリジウム毒素;かかる2本鎖ループ領域内に位置するクロストリジウム毒素基質切断部位を含む修飾されたクロストリジウム毒素をコードするポリヌクレオチド分子;および2本鎖ループ領域内に位置するクロストリジウム毒素基質切断部位を含む修飾されたクロストリジウム毒素の製造方法を開示する。【選択図】図1
