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流体投与装置の表面を処理する処理方法
专利权人:
アプター フランス エスアーエス
发明人:
ブルーナ、パスカル,ローラン、マチュー,ネケルソン、ファビアン,ルーセル、セバスチアン
申请号:
JP2012545403
公开号:
JP2013515533A
申请日:
2010.12.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
This invention contacts with the fluid while Drive of the aforementioned fluid dosage device in regard to the treatment manner which treats the surface of the fluid product dosage device, on the base material surface of 1 or more of the part of 1 or more of the aforementioned fluid dosage device, including the treatment which is formed the thin film which possesses the property which prevents the hi tsu being attached of the aforementioned fluid, making use of chemical graft, the treatment manner which is featured.< Choice figure >It is not本発明は、流体製品投与装置の表面を処理する処理方法に関し、前記流体投与装置の駆動中に流体と接触する、前記流体投与装置の1以上の部分の1以上の支持体表面に、前記流体のひっつきを防止する特性を有する薄膜を、化学グラフトを用いて形成する処理を含むこと、を特徴とする処理方法。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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