A fluid path partially defined by at least the first surface of the transparent wall against radiation useful in radiation-assisted chemical processes, a portion defined by at least a second surface opposite the first surface of the transparent wall , is the disclosure of an apparatus for performing radiation-assisted chemical processes and a plasma chamber or gas discharge chamber is arranged to produce useful radiation in radiation-assisted chemical processing. Method for manufacturing a photocatalytic reactor associated, comprising the steps of depositing a photocatalytic material by wash coating a fluid path in particular, depositing a first portion of non-circular cross-section path photocatalytic material, die wall made of transparent material, is not deposited on the second portion of non-circular cross-section path including at least a portion of one surface, and a step that includes or removing the photocatalyst material from the second portion.放射線支援化学処理に有用な放射線に対し透明な壁の第1面によって少なくとも一部が画成された流体経路と、透明壁の第1面に対向する第2面によって少なくとも一部が画成され、放射線支援化学処理に有用な放射線を生成するよう構成されたガス放電チャンバー又はプラズマ・チャンバーとを有する放射線支援化学処理を行うための装置の開示である。関連する光触媒反応装置の作製方法が、とりわけ流体経路をウォッシュコートして光触媒材料を堆積させるステップであって、光触媒材料を非円形断面経路の第1部分に堆積させ、透明材料から成る壁の第1面の少なくとも一部を含む非円形断面経路の第2部分には堆積させず、又は第2部分から光触媒材料を除去することを含むステップを有している。
