高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法
- 专利权人:
- 学校法人 関西大学;三菱瓦斯化学株式会社
- 发明人:
- 工藤 宏人,越後 雅敏,樋田 匠,佐藤 隆
- 申请号：
- JP20160091799
- 公开号：
- JP2017088848(A)
- 申请日:
- 2016.04.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】高感度且つ微細なパターンが得られる高分子化合物、それを含むレジスト材料、感放射線性組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】レゾルシン型カリックスアレーン環の２個が、カリックスアレーン環の構成要素のレゾルシン部位で架橋基により、１〜８カ所で互いに結合されており、非結合レゾルシン部位は１個のカリックスアレーン環当たり０〜７個であり、該架橋基の少なくとも一つが酸解離性部位を有する双ドーナツ構造カリックスアレーン環の高分子化合物。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
