高分子化合物、感放射線性組成物及びパターン形成方法
- 专利权人:
- 学校法人 関西大学;三菱瓦斯化学株式会社
- 发明人:
- 工藤 宏人,越後 雅敏,樋田 匠,佐藤 隆
- 申请号：
- JP20160091798
- 公开号：
- JP2017088847(A)
- 申请日:
- 2016.04.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】レジストパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式（１）で示される単位構造を含む高分子化合物。（ｍ1＝１〜８；ｎ1＝０〜７；ｍ2＝１〜８；ｎ2＝０〜７；ｍ2＋ｎ2＝４〜８；ｍ1＝ｍ2、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ2、Ｒ5は夫々独立して特定の置換基）【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
