放射線架橋型ポリビニルアルコールを含むイオン性高分子膜及びその製造方法
- 专利权人:
- コリア アトミック エナジー リサーチ インスティテュートＫｏｒｅａ Ａｔｏｍｉｃ Ｅｎｅｒｇｙ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ
- 发明人:
- チュン チャンヒ,シン ジョンファ,ファン インテ,ソン ジョンヨン,チュン チャンヒ
- 申请号：
- JP20160102432
- 公开号：
- JP2017066366(A)
- 申请日:
- 2016.05.23
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】加工性が良く、製造コスト安価ながら高いイオン交換能と高い耐久性を有するイオン性高分子膜を提供する。【解決手段】下記化学式1で表される化合物とイオン性高分子を用いて、放射線照射を通じて得られるイオン性高分子膜。【選択図】図４
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
