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剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置
- 专利权人:
- 三菱电机株式会社
- 发明人:
- 大谷利宏,原田久,池田昌广,花川和之,本田泰三
- 申请号：
- CN201180053749.7
- 公开号：
- CN103200991A
- 申请日:
- 2011.03.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置(26)，该剂量监视装置(26)测定粒子射线的剂量；以及小型电离室(38)，该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置(26)要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，由所述剂量监视装置(26)来测定被照射出的粒子射线的剂量，由所述小型电离室(38)来对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，并基于所述小型电离室(38)测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
