The purpose of the present invention is to provide an apparatus and method for objectively evaluating plasma by measuring with ease the electric current generated by plasma irradiation devices, such as those used in medical treatments, and the electric current flowing to an organism or the like. Provided are a plasma evalution apparatus and method, wherein plasma generated by a plasma irradiation device is received by a material to be irradiated, the material to be irradiated is connected, via a measurement terminal on the side to be irradiated, to a microcurrent measurement unit comprising a resistor and a differential amplifier, resistance elements of the microcurrent measurement unit are connected to the grounding side of a power supply for generating plasma, the voltage applied between the resistance elements of the resistor is measured via the differential amplifier so as to measure the current, and the output voltage of the power supply for generating plasma is measured, thereby evaluating the plasma.La présente invention vise à proposer un appareil et un procédé pour évaluer de manière objective un plasma par mesure avec facilité du courant électrique généré par des dispositifs dirradiation plasma, tels que ceux utilisés dans des traitements médicaux, et le courant électrique circulant vers un organisme ou similaire. La présente invention porte sur un appareil et un procédé dévaluation de plasma, un plasma généré par un dispositif dirradiation plasma étant reçu par une matière à irradier, la matière à irradier étant reliée, par lintermédiaire dune borne de mesure sur le côté à irradier, à une unité de mesure de micro-courant comprenant une résistance et un amplificateur différentiel, des éléments de résistance de lunité de mesure de micro-courant étant reliés au côté de mise à la masse dune alimentation électrique pour générer un plasma, la tension appliquée entre les éléments de résistance de la résistance étant mesurée par lintermédiaire de lamplificateur d
