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一种空心微针阵列制造方法
- 专利权人:
- 华中科技大学
- 发明人:
- 廖广兰,林建斌,谭先华,史铁林,汤自荣
- 申请号：
- CN201710416112.9
- 公开号：
- CN107297020B
- 申请日:
- 2017.06.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明属于微纳结构制造工艺领域,并公开了一种空心微针阵列制造方法,包括以下步骤:1)镀金属种子层;2)旋涂负性光刻胶层;3)对负性光刻胶层进行前烘;4)曝光:在掩膜版的上方采用紫外光源对负性光刻胶层进行曝光,则光穿过掩膜版后透入负性光刻胶层,使负性光刻胶层的部分区域发生光固化反应;5)显影:采用显影液对负性光刻胶层进行显影,以去除未发生光固化反应的负性光刻胶;6)电镀结构层,形成微针针壁;7)采用有机溶剂去除负性光刻胶,在基底上获得空心微针阵列结构。本发明由于小尺寸掩膜版图形的光学衍射作用,显影后会在负性光刻胶层上形成上小下大的空洞结构,由此电镀填充得到的金属微针针壁具有很好的结构稳定性。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
