Target material droplets, for example, enemy tin liquid source and the liquid contains a laser, for generating a beam to be irradiated on the small area irradiated, and the plasma generation system that has a pulsed CO 2 laser is disclosed, wherein the plasma It generates EUV radiation. For devices, droplet sources generates a Floyd disturbance in generating droplets having the Floyd and different initial velocity exiting the orifice at least a portion adjacent droplet pair may include a subsystem to join together before they reach the area irradiated . In one embodiment, such a disturbance is a frequency modulated waveform may include a disturbance, in another embodiment, these disturbances may include amplitude modulated waveform disturbance.A plasma generation system, the target material droplets, irradiation area, laser, liquid source, an orifice, Floyd, disturbance타겟 재료 액적, 예를 들어, 주석 액적의 소스 및, 상기 액적을 조사 영역에서 조사하는 빔을 생성하는 레이저, 예를 들어, 펄싱된 CO2 레이저를 갖고 있는 플라즈마 생성 시스템이 개시되어 있고, 상기 플라즈마는 EUV 조사선을 생성한다. 디바이스에 대해, 액적 소스는 오리피스를 나오는 플로이드 및, 상이한 초기 속도를 갖는 액적을 생성하는 플로이드내의 디스터번스를 생성하여 적어도 일부 인접한 액적쌍이 조사 영역에 도달하기 전에 함께 연합하도록 하는 서브 시스템을 포함할 수 있다. 하나의 실시예에서, 이러한 디스터번스는 주파수 변조된 디스터번스 파형을 포함할 수 있고, 또 다른 실시예에서, 이러한 디스터번스는 진폭 변조된 디스터번스 파형을 포함할 수 있다.
