用于在LPP EUV光源中控制源激光器激发的系统和方法
- 专利权人:
- ASML荷兰有限公司
- 发明人:
- D·里格斯,R·拉法克
- 申请号：
- CN201680047424.0
- 公开号：
- CN108348763B
- 申请日:
- 2016.05.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了用于改进激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)生成系统中的源激光器的定时的方法和系统。由于等离子体室内的力,微滴的速度可以随着M靠近照射部位而减慢。由于微滴减慢,源激光器相对于减慢的微滴过早地激发,导致只有微滴的前沿部分被照射。由微滴生成的EUV能量的量与微滴的经减慢的速度成比例。为了补偿,基于所生成的EUV能量针对下一微滴延迟源激光器的激发。由于针对下一微滴延迟源激光器的激发,所以下一微滴更可能处于更加完全地被照射的位置,导致从下一微滴生成更多的EUV能量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
