用于避免源等离子体室中的不稳定状况的系统和方法
- 专利权人:
- ASML荷兰有限公司
- 发明人:
- D·J·里格斯
- 申请号：
- CN201680067794.0
- 公开号：
- CN108348765B
- 申请日:
- 2016.01.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 在LPP EUV系统中,在所生成的EUV能量中可能出现正弦振荡或不稳定性。这通过检测LPP EUV系统何时接近这样的不稳定性并通过移动LPP EUV系统的激光束调整LPP EUV系统来避免。通过确定所生成的EUV能量何时等于或高于初级阈值来完成检测。在固定时间段内完成通过移动激光束对LPP EUV系统的调整,直到后续生成的EUV能量低于初级阈值,直到后续的所生成的EUV能量在固定时间段内低于初级阈值,或者直到后续的所生成的EUV能量等于或低于次级阈值,次级阈值低于初级阈值。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
