The present invention relates to a plasma treatment device. The plasma treatment device according to an embodiment of the present invention may comprise: a cover part attached to a body； a plasma generation part for generating plasma and providing same to the cover part； a gas supply part for supplying a source gas for generating plasma to the plasma generation part； and an exhaust part for exhausting an exhaust gas from the cover part.La présente invention concerne un dispositif de traitement par plasma. Le dispositif de traitement par plasma selon un mode de réalisation de la présente invention peut comprendre : une partie de couvercle fixée à un corps ； une partie de génération de plasma pour générer du plasma et le fournir à la partie de couvercle ； une partie d'alimentation en gaz pour fournir un gaz source pour générer un plasma à la partie de génération de plasma ； et une partie d'échappement pour évacuer un gaz d'échappement de la partie de couvercle본 발명은 플라즈마 치료 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 치료 장치는, 체부에 부착되는 커버부； 플라즈마를 발생시켜 상기 커버부에 제공하는 플라즈마 발생부； 상기 플라즈마 발생부에 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스를 공급하는 가스 공급부； 및 상기 커버부로부터 배기 가스를 배기하는 배기부를 포함할 수 있다.
