The present invention is the plasma generating gas in addition to the plasma generation gas inlet for supplying a plasma generation gas into a primary as provided with a plasma generating gas supplied to the secondary injection may result in the plasma efficiently and reliably, that present invention also to the length and width of the plasma generated by using the self-generating means may occur to further increase A plasma generating apparatus.plasma generating apparatus, the negative high voltage is applied to the cathode assembly having the lower of the present invention for this The surround the negative electrode provided with a multiple of the plasma generation gas inlet to form a plasma generating space, but the positive electrode and the plasma generating gas injected into the plasma generating space for generating a plasma into the gap between the negative electrode when a high voltage is applied to the negative electrode anode assembly And the cathode assembly or the anode assembly is provided in the outside of the at least one magnetic generation means for generating a magnetic force is configured to include a.본 발명은 플라즈마발생가스를 1차적으로 공급하는 플라즈마발생가스주입로 이외에 플라즈마발생가스를 2차적으로 공급하는 플라즈마발생가스주입로를 구비함에 따라 플라즈마를 효율적이고 안정적으로 발생할 수 있고, 또한, 본 발명은 자기발생수단을 활용하여 발생된 플라즈마의 길이와 폭이 더욱 증대되도록 발생할 수 있도록 하는 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.이를 위한 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 고전압이 인가되는 음전극이 하부에 구비된 음극조립체 상기 음전극을 감싸 플라즈마발생공간을 형성하되 상기 음전극에 고전압 인가시 상기 음전극과의 사이에 플라즈마를 발생하는 양전극 및 상기 플라즈마발생공간으로 플라즈마발생가스를 주입하기 위한 복수의 플라즈마발생가스주입로가 구비된 양극조립체 및 상기 음극조립체 또는 상기 양극조립체의 외부에 구비되어 자기력을 발생하기 위한 적어도 하나의 자기발생수단을 포함하여 구성된다.
