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COMPOSITION FOR PHOTODYNAMIC DISINFECTION
专利权人:
ONDINE INTERNATIONAL LTD.
发明人:
STREET, CALE,卡爾.斯特瑞特,PEDIGO, LISA,麗薩.佩蒂戈,LOEBEL, NICOLAS,尼古拉斯.勒貝爾
申请号:
HK12106704.0
公开号:
HK1165998B
申请日:
2012.07.10
申请国别(地区):
HK
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention includes a composition for enhancing the antimicrobial efficacy of photodynamic disinfection against Gram-negative organism that is receptive to paraben potentiation using a composition comprising a photosensitizer and at least one paraben. The present invention also includes a method for photodynamic disinfection comprising applying the composition to a desired treatment area and applying light to the desired treatment area at a wavelength absorbed by the photosensitizer so as to inhibit Gram-negative organism located within the treatment area wherein the Gram-negative organism is receptive to paraben potentiation.La présente invention comprend une composition destinée à améliorer lefficacité antimicrobienne dune désinfection photo-dynamique contre un organisme Gram négatif qui est réceptif à la potentialisation de parabène à laide dune composition comprenant un photo-sensibilisant et au moins un parabène. La présente invention porte également sur un procédé de désinfection photo-dynamique comprenant lapplication de la composition à une zone de traitement souhaitée et lapplication à la zone de traitement désirée de lumière dune longueur donde absorbée par le photo-sensibilisant de façon à inhiber un organisme Gram négatif situé dans la zone de traitement, lorganisme Gram négatif étant réceptif à la potentialisation du parabène.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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