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光線力学殺菌用の組成物
专利权人:
オンディーヌ インターナショナル リミテッド
发明人:
ケイル ストリート,リサ ペディーゴ,ニコラス ローベル
申请号:
JP2012500775
公开号:
JP2012520876A
申请日:
2009.10.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The invention includes a composition for improving the antimicrobial efficacy of photodynamic disinfection against gram-negative organisms by using a composition comprising a paraben and at least one photosensitive agent, with a receptive to parabens synergy . Also, and applying to the treatment area desired the composition, in order to present in the treatment area, to inhibit the Gram-negative organisms with a receptive to parabens synergy invention, by the photosensitive agent It is a method for the photodynamic sterilization including the steps of irradiating light to the treatment region of the desired wavelength that is absorbed.本発明は、感光剤および少なくとも1種のパラベンを含む組成物を使用して、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体に対する光線力学殺菌の抗菌有効性を向上させるための組成物を含む。また、本発明は、前記組成物を所望の処置領域に適用するステップと、前記処置領域内に存在し、パラベン相乗作用に受容性を有するグラム陰性有機体を阻害するために、前記感光剤によって吸収される波長で前記所望の処置領域に光を照射するステップと、を含む光線力学殺菌のための方法である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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