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COMPOSITION POUR DÉSINFECTION PHOTO-DYNAMIQUE
专利权人:
Ondine International Ltd.
发明人:
申请号:
EP09740609.4
公开号:
EP2408478A1
申请日:
2009.10.21
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention includes a composition for enhancing the antimicrobial efficacy of photodynamic disinfection against Gram-negative organism that is receptive to paraben potentiation using a composition comprising a photosensitizer and at least one paraben. The present invention also includes a method for photodynamic disinfection comprising applying the composition to a desired treatment area and applying light to the desired treatment area at a wavelength absorbed by the photosensitizer so as to inhibit Gram-negative organism located within the treatment area wherein the Gram-negative organism is receptive to paraben potentiation.La présente invention comprend une composition destinée à améliorer l'efficacité antimicrobienne d'une désinfection photo-dynamique contre un organisme Gram négatif qui est réceptif à la potentialisation de parabène à l'aide d'une composition comprenant un photo-sensibilisant et au moins un parabène. La présente invention porte également sur un procédé de désinfection photo-dynamique comprenant l'application de la composition à une zone de traitement souhaitée et l'application à la zone de traitement désirée de lumière d'une longueur d'onde absorbée par le photo-sensibilisant de façon à inhiber un organisme Gram négatif situé dans la zone de traitement, l'organisme Gram négatif étant réceptif à la potentialisation du parabène.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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