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偏光解消素子並びにその素子を用いた偏光解消装置及び光学機器
- 专利权人:
- リコーインダストリアルソリューションズ株式会社
- 发明人:
- 藤村 康浩,梅木 和博,成田 博和
- 申请号：
- JP20150509861
- 公开号：
- JPWO2014162621(A1)
- 申请日:
- 2013.09.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 基材の表層部に構造性複屈折をもつ複数のサブ波長構造領域が配置された偏光解消素子において、様々な偏光状態を作り出せる構造をもった偏光解消素子を提供する。偏光解消素子において、基材の表層部に構造性複屈折をもつ複数のサブ波長構造領域が配置されている。サブ波長構造領域は、使用する光の波長よりも短い周期で繰り返して配列された凸条部と凹条部からなるサブ波長構造をもっている。サブ波長構造領域として、サブ波長構造の凸条部と凹条部の凹凸繰返し方向の領域サイズが凸条部と凹条部の繰返し周期数で５〜２５回相当の範囲内であるサブ波長構造領域が含まれている。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
