본 개시내용의 실시예들은, 배기 파이프를 세정하기 위한 원격 플라즈마 소스에 관한 것이다. 일 실시예에서, 장치는, 기판 프로세싱 챔버, 기판 프로세싱 챔버를 진공배기하도록 포지셔닝된 펌프, 및 저감 시스템을 포함한다. 저감 시스템은, 기판 프로세싱 챔버와 펌프 사이에 포지셔닝된 플라즈마 가스 전달 시스템 - 가스 전달 시스템은 기판 프로세싱 챔버에 커플링된 제 1 단부 및 펌프에 커플링된 제 2 단부를 가짐 -, 전달 부재를 통해 가스 전달 시스템에 연결된 반응기 본체, 반응기 본체에 연결된 세정 가스 소스, 및 세정 가스 소스로부터의 세정 가스를 반응기 본체 내에서 이온화하도록 포지셔닝된 전력 소스를 포함한다. 세정 가스의 종 및/또는 라디칼들은, 기판 프로세싱 챔버로부터의 프로세스-후 가스들과 반응하여 이들이 펌프에 진입하기 전에 이들을 환경
