An x-ray detector 10 for a phase contrast imaging system 100, and a phase contrast imaging system 100 including such a detector 10 are provided. The X-ray detector 10 comprises a scintillation device 12 and a photodetector 14 including a plurality of photosensitive pixels 15 optically coupled to the scintillation device 12, the X-ray detector 10 being a surface of the scintillation device 12. Having a main axis 16 parallel to the normal vector, the scintillation device 12 includes a wafer substrate 18 having a plurality of grooves 20 spaced from one another. Each groove 20 extends from the first surface 13 of the scintillation device 12 into a depth 22 along a first direction 21 into the wafer substrate 18, wherein each groove 20 is at least partially scintillation material. Is filled with. In this regard, the first direction 21 of at least some of the plurality of grooves 20 is such that at least some of the plurality of grooves 20 are inclined with respect to the main shaft 16. Is different from. The angle between the first direction 21 of the groove 20 arranged in the central region 24 of the scintillation device 12 and the main axis 16 is determined by the first direction 21 of the groove 20 arranged in the outer region 26 of the scintillation device 12 and the main axis. Less than 16 degrees.位相コントラスト画像化システム１００用のＸ線検出器１０、及びそのような検出器１０を備える位相コントラスト画像化システム１００が提供される。Ｘ線検出器１０は、シンチレーション装置１２と、シンチレーション装置１２に光学的に結合された複数の感光性ピクセル１５を含む光検出器１４とを備え、Ｘ線検出器１０は、シンチレーション装置１２の表面法線ベクトルに対して平行な主軸１６を有し、シンチレーション装置１２は、互いに間隔をあけて配置された複数の溝２０を有するウェーハ基板１８を含む。それぞれの溝２０は、シンチレーション装置１２の第１の面１３からウェーハ基板１８内への第１の方向２１に沿った深さ２２まで延びており、それぞれの溝２０は、少なくとも部分的にシンチレーション材料で満たされている。この点に関して、複数の溝２０のうちの少なくとも一部の溝が主軸１６に対して傾くような態様で、複数の溝２０のうちの少なくとも一部の溝の第１の方向２１は、主軸１６とは異なっている。シンチレーション装置１２の中心領域２４に配置された溝２０の第１の方向２１と主軸１６との間の角度は、シンチレーション装置１２の外側領域２６に配置された溝２０の第１の方向２１と主軸１６との間の角度よりも小さい。
