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脂質膜含有物を固定化するための化合物、当該化合物で修飾された基材、当該基材上に脂質膜含有物をパターニングする方法及び脂質膜含有物を当該基材上で単離する方法
专利权人:
国立大学法人 東京大学
发明人:
長棟 輝行,山口 哲志,山平 真也
申请号:
JP20170509496
公开号:
JPWO2016158327(A1)
申请日:
2016.03.11
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
本発明は、式(I)の化合物[式中、A1は、脂質膜含有物中の脂質膜と結合する脂質膜結合基であり、A2は、前記脂質膜結合基の脂質膜への結合を阻害する脂質膜結合阻害基であり、A3は、光反応基であり、A4は、親水性基であり、A5は、修飾対象基材への反応基であり、A6は、少なくとも3本の結合手を有する足場部位であり、L1及びL2は、リンカーであり、k1及びk2は、それぞれ独立して0又は1である]で表される化合物であって、光反応により、脂質膜結合阻害基による結合阻害が解消されて、前記脂質膜結合基が脂質膜に結合可能となる、前記化合物、当該化合物で修飾された基材、当該基材上に脂質膜含有物をパターニングする方法、及び当該基材上で脂質膜含有物を単離する方法に関する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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