感光性樹脂組成物及び回路パターンの形成方法
- 专利权人:
- 旭化成株式会社
- 发明人:
- 内藤 一也,松田 隆之
- 申请号：
- JP20160521151
- 公开号：
- JPWO2015178462(A1)
- 申请日:
- 2015.05.21
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- （Ａ）アルカリ可溶性高分子：４０〜８０質量％、（Ｂ）光重合開始剤：０．１〜２０質量％、及び（Ｃ）エチレン性二重結合を有する化合物：５〜５０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物からなる厚さ２５μｍの感光性樹脂層を基板表面上に形成し、露光時の焦点の位置を基板表面から該基板の厚み方向に２００μｍ基板内側にずらした条件で露光及び現像を行って得られるレジストパターンのレジスト裾幅が０．０１μｍ〜３．５μｍであり、そしてダイレクトイメージング露光に用いられることを特徴とする、前記感光性樹脂組成物。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
