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Medizinische Behandlungsvorrichtung
专利权人:
Olympus Corporation
发明人:
Hikaru Inoue
申请号:
DE112015005436
公开号:
DE112015005436T5
申请日:
2015.02.13
申请国别(地区):
DE
年份:
2017
代理人:
摘要:
Eine medizinische Behandlungsvorrichtung umfasst ein erstes und ein zweites Halteelement 9 und 10, die einen Zielteil in einem Körpergewebe greifen, der zu verbinden und präparieren ist. Das zweite Halteelement 10 umfasst eine Behandlungsoberfläche 101, die so konfiguriert ist, dass sie den Zielteil kontaktiert, wenn der Zielteil vom ersten und zweiten Halteelement 9 und 10 gegriffen wird, und umfasst einen ersten und einen zweiten Energieanlegungsabschnitt 102 und 103, die so konfiguriert sind, dass sie Energie an den Zielteil anlegen. Die Behandlungsoberfläche 101 umfasst einen Hochleistungsbereich ArH, der Energie an den Zielteil bei einem ersten Ausgabewert zum Präparieren zumindest des Zielteils anlegt, und einen Niedrigleistungsbereich ArL, der Energie bei einem zweiten Ausgabewert an den Zielteil anlegt, der kleiner als der erste Ausgabewert ist. Der Hochleistungsbereich ArH und der Niedrigleistungsbereich ArL sind in Bezug aufeinander kontinuierlich bereitgestellt.A medical treatment device comprises a first and a second retaining element 9 and 10, the a target moiety engage in a body tissue, which is to connect and preparing. The second retaining element 10 comprises a treatment surface 101 which is configured in such a way that it makes contact with the target moiety, when the target moiety from the first and second holding element 9 and 10 is gripped, and comprises a first and a second energy application section 102 and 103, which are configured such that they energy to the target moiety applying. The treatment surface 101 comprises a high power range arh, the power to the target moiety in the case of a first output value in order to prepare at least of the target part, and a low power range arl, of the energy in the case of a second output value at the target moiety, which is smaller than the first output value. The high power range arh and the low power range arl in relation to one another are provided continuously.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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