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一种印痕提取纳米荧光粉的制备方法
专利权人:
内蒙古大学
发明人:
张军,高峰,孙秀峰,李倩,李群,包丽茹,郑金成,李昕,王文胜
申请号:
CN200910250592.1
公开号:
CN101735817B
申请日:
2009.12.16
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明公开了一种印痕提取纳米荧光粉的制备方法,这种方法基于纳米技术,以层状蒙脱土为载体,将II-VI族半导体量子点嵌入蒙脱土层间,通过蒙脱土插层负载克服了该类半导体量子点纳米荧光粉易氧化变质这一关键技术问题,在保持半导体量子点高效荧光效率的基础上,提高了其粘附性。本制备方法过程简单成本低,制备出的印痕显现和提取用纳米荧光粉对新鲜的或者陈旧性指纹的粘附性好,指纹显现时分辨率高、背景干扰小,具有提取效率高、陈旧指纹显现明显的特点,在现代刑事科学中具有重要的应用价值。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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