基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法
- 专利权人:
- 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 发明人:
- 喻波,姚舜,金春水
- 申请号：
- CN201510962171.7
- 公开号：
- CN105608495A
- 申请日:
- 2015.12.21
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 王莹
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于遗传算法的磁控溅射调速曲线反演方法，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中磁控溅射调速曲线的反演方法极易陷入局部极小值的问题。本发明的反演方法是通过目标膜厚分布曲线，采用遗传算法反演磁控溅射公转速度曲线。该方法提高了反演过程的稳定性，避免了反演过程陷入局部最小值，由该方法反演得到的调速曲线所对应的膜厚曲线与目标膜厚曲线误差很小，从而提高了物镜基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
