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COSMETIC METHOD
专利权人:
가부시키가이샤 시세이도
发明人:
기무라 도모코,간노 나오미,야마키 사토시
申请号:
KR1020157009594
公开号:
KR1020150065179A
申请日:
2013.10.11
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention provides a cosmetic method which is excellent in the irregularity correction effect and can easily remove make-up cosmetic ingredients and / or sun-care cosmetic ingredients. A cosmetic method according to the present invention is a cosmetic method comprising the steps of attaching a base film surface of a thin film to skin, removing a support of a thin film adhered thereto, and applying a makeup cosmetic material and / or a sunscreen cosmetic material to the skin, Wherein the thin film is composed of a base film having a thickness of 10 to 500 nm and a support.본 발명은 요철보정 효과가 우수하고, 메이크업 화장료 및/또는 선케어 화장료를 용이하게 제거할 수 있는 미용방법을 제공한다. 본 발명에 관한 미용방법은 박막의 기재막 면을 피부에 붙이는 단계와, 붙인 박막의 지지체를 제거하는 단계와, 상기 피부에 메이크업 화장료 및/또는 선케어 화장료를 도포하는 단계를 갖는 미용방법에 있어서, 박막이 막두께가 10~500㎚인 기재막과 지지체로 이루어진 것을 특징으로 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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