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DISPOSITIF DE PRODUCTION DE PLASMA, SYSTEME DE PRODUCTION DE PLASMA ET PROCEDE DE PRODUCTION DE PLASMA
专利权人:
INP Greifswald Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e. V.
发明人:
申请号:
EP15195015.1
公开号:
EP3171676A1
申请日:
2015.11.17
申请国别(地区):
EP
年份:
2017
代理人:
摘要:
Die vorliegende Anmeldung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung mit einer Hochspannungselektrode sowie mindestens einer Außenelektrode. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein Plasmaerzeugungssystem mit mehreren erfindungsgemäßen Plasmaerzeugungsvorrichtungen, sowie ein Verfahren zur Erzeugung von Plasma mittels einer erfindungsgemäßen Plasmaerzeugungsvorrichtung oder einem erfindungsgemäßen Plasmaerzeugungssystem.Die Plasmaerzeugungsvorrichtung (1) dient insbesondere zur Erzeugung eines Atmosphärendruckplasmas (33) zur antimikrobiellen Behandlung feuchter Oberflächen. Sie umfasst eine Hochspannungselektrode (10) sowie mindestens eine Außenelektrode (11, 12), wobei die Hochspannungselektrode (10) zumindest in einer Koordinatenrichtung (34) zwischen Leitungsmaterial wenigstens einer Außenelektrode (11, 12) angeordnet ist. Die Hochspannungselektrode (10) ist zumindest auf einer einer Außenelektrode (11, 12) zugewandten Seite mit einem Dielektrikum (21) bedeckt. Zwischen der jeweiligen Außenelektrode (11, 12) und der Hochspannungselektrode (10) ist über deren Längserstreckung wenigstens ein Abstandselement (20) vorhanden, welches zumindest im Bereich dessen Anordnung die jeweilige Außenelektrode (11,12) von der Hochspannungselektrode (10) elektrisch isoliert und welches die jeweilige Außenelektrode (11, 12) in einem konstanten Abstand von der Hochspannungselektrode (10) positioniert.The present application relates to a plasma generating device having a high voltage electrode and at least one outer electrode. Furthermore, the present invention relates to a plasma generation system with a plurality of plasma generation devices according to the invention, and to a method for generating plasma by means of a plasma generation device according to the invention or a plasma generation system according to the invention. The plasma generating device (1) serves in particular for generating an atmospheric pressure plasma (33) for the antimicrobial treatment of mo
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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