Ein Plasma-Behandlungsgerät (1), ausgebildet zur Behandlung einer Oberfläche mit einem dielektrisch behinderten Plasma, mit einer mindestens eine Elektrode (3) aufweisenden Elektrodenanordnung (5) und mit einem Dielektrikum (7), das die Elektrode (3) zu der zu behandelnden Oberfläche hin vollständig abdeckt, und mit einem Gehäuse (9), das eine mindestens eine Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) umfassende Leitungsanordnung (11) enthält, wobei die Elektrode (3) mit der Leitungs- anordnung (11) verbunden ist und über die Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) mit einem an die Hochspannungszuleitung (10, 10a, 10b) anlegbaren Hochspannungssignal (13a, 13b) beaufschlagt werden kann, ermöglicht in einfacher Weise die Kombination einer effektiven Plasmabehandlung mit einer effektiven mechanischen Behandlung der zu behandelnden Oberfläche dadurch, dass das Plasma-Behandlungsgerät (1) einen Bürstenkopf (15) hat, der ein Borstenfeld (17) und einen Borstenträger (19) mit einer Basisfläche (21) aufweist, wobei das Borstenfeld (17) eine Vielzahl flexibler Borsten (23) und Zwischenräume zwischen den Borsten (23) aufweist und die Borsten (23) von der Basisfläche (21) des Borstenträgers (19) abragen in Richtung einer Anlagefläche (27), welche durch die von der Basisfläche (21) abgewandten Enden der längsten Borsten (23) des Borstenfelds (17) definiert wird, wobei das Borstenfeld (17) eine durch den Abstand zwischen Basisfläche (21) und Anlagefläche (27) definierte erste Länge aufweist und wobei die mindestens eine Elektrode (3) der Elektrodenanordnung (5) sich ausgehend von der Basisfläche (21) mit einer zweiten Länge, die kleiner als die erste Länge oder gleich der ersten Länge ist und mindestens 30 % der ersten Länge beträgt, in Richtung der Anlagefläche (27) in das Borstenfeld (17) hinein erstreckt.A plasma treatment device (1), designed for treating a surface with a dielectrically impeded plasma, comprising an electrode arrangement (5) which has at least one electrode (3), and
